真空镀膜的工艺流程-真空镀膜加工

发布者：真空镀膜的工艺流程… 发布于：2019/2/22 12:58:05 点击率：7618

真空镀膜过程非常复杂。真空镀膜的原理可以分为多种，因为真空镀膜的工作环境要求高真空，并有统一的名称。因此，对于不同的真空镀膜原理，影响均匀性的因素也不同。均匀性本身的概念与涂层尺寸和薄膜成分有不同的含义。我下面分别说一下：
    薄膜均匀性的概念：
    1.　　1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
    2.化学组分上的均匀性:就是说在薄膜中化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性SiTiO薄膜如果镀膜过程不科学那么实际表面的组分并不是SiTiO而可能是其他的比例镀的膜并非是想要的膜的化学成分这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
    3.　　3.晶格有序度的均匀性：　　这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体有以下几点。
    主要分类有两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则蕴含大堆种类，包含真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，溶胶凝胶法等等
    一.对于溅射类镀膜：
    　溅射镀膜就是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
    　　溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
    溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，真空蒸发镀膜设备，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
    二、对于蒸发镀膜：
    一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。
    厚度均匀性主要取决于：
    1、基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3.蒸发功率，速率4.真空度5.镀膜时间，厚度大小。
    组分均匀性：
    蒸发手套箱组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分手套箱，蒸发手套箱的组分均匀性不好。
    　　晶向均匀性：　　1、晶格匹配度　　2、基片温度　　3、蒸发速率