真空镀膜后膜层附着力不足可能由多种因素引起，但以下几个方法可以帮助解决这个问题：

1. 基材表面处理： 确保基材表面清洁和处理良好是提高镀膜附着力的关键。使用适当的清洁剂和表面处理方法，如等离子体清洁、UV处理或化学活化等，能够增加基材表面的粗糙度和活性，有助于膜层更好地附着在基材上。

2. 中间层应用： 在进行主要的镀膜之前，可以先应用一层适当的中间层。这种中间层通常能够提供更好的界面附着性，有助于增强主要膜层的附着力。选择中间层材料时，要考虑其与基材和主要膜层之间的相容性和粘合力。

3. 优化镀膜过程参数： 调整真空镀膜过程的参数和条件是提高膜层附着力的另一重要措施。包括但不限于，控制沉积速率、基底温度和膜层厚度的均匀性等。确保在整个镀膜过程中保持稳定的真空度和其他关键工艺参数，以减少可能影响附着力的因素。

4. 后处理和测试： 镀膜完成后，进行适当的后处理，如退火或热处理，有时可以帮助提高膜层的结晶度和稳定性，从而增强附着力。此外，进行膜层附着力的测试和评估是确保质量和一致性的关键步骤，可以及早发现并解决附着力不足的问题。

通过综合以上方法，可以有效地解决真空镀膜后膜层附着力不足的问题，确保所得到的镀膜具有良好的质量和性能。